Atomic Layer Deposition for Semiconductors - - Livros - Springer-Verlag New York Inc. - 9781489979438 - 23 de agosto de 2016
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Atomic Layer Deposition for Semiconductors Softcover reprint of the original 1st ed. 2014 edition

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This edited volume discusses atomic layer deposition (ALD) for all modern semiconductor devices, moving from the basic chemistry of ALD and modeling of ALD processes to sections on ALD for memories, logic devices, and machines. The section on ALD for logic devices covers both front-end of the line processes and back-end of the line processes.

273 pages, 89 black & white illustrations, 81 colour illustrations, 3 black & white tables, 1 colour

Mídia Livros     Paperback Book   (Livro de capa flexível e brochura)
Lançado 23 de agosto de 2016
ISBN13 9781489979438
Editoras Springer-Verlag New York Inc.
Páginas 263
Dimensões 234 × 155 × 18 mm   ·   482 g
Idioma Inglês  
Editor Hwang, Cheol Seong

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