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Design a Slit HDP Semiconductor Plasma Dry Etcher
Kung Linliu
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Design a Slit HDP Semiconductor Plasma Dry Etcher
Kung Linliu
In order to overcome the difficulties of the manufacturing procedures, the novel concept of slit shape HDP plasma dry etching of metal roller from semiconductor IC process is proposed and applied to a patent.
| Mídia | Livros Paperback Book (Livro de capa flexível e brochura) |
| Lançado | 8 de novembro de 2020 |
| ISBN13 | 9798561298431 |
| Editoras | Independently Published |
| Páginas | 140 |
| Dimensões | 152 × 229 × 8 mm · 195 g |
| Idioma | English |
